申🐃城微电子公司只能够转而去研究前道🍚光刻机。
前道光刻机主要应用于半导体屏幕的。
是的，屏幕也是由光刻机来生产的。
可现在却🞄有人告诉陈怀庆，华国的光刻机并不差。
陈怀庆抬头看向💕👪赵建胜：“各位领导🈷🂾，你们确定给我看的资料，没有掺假？”
第一台光刻机落地于60年代中后期，
1980年自动对准分布投影光刻机研制成功，加工最细线宽为0.8微米。🈮
此时在国内，光刻机研发团队还真的不🍚少，不像是最后📎🙰🎃，就剩下申城微电子一个独苗。
109厂是高技术半导体器件和🆈🍦集成电路研制生产中试厂。
赵建胜嗤笑一声：“怎么，很惊讶？”
陈怀庆：“不仅仅是惊讶，还很难以置信🎱🔴🄲。本来，我🉣以为我们的光⛘刻机技术很落后，可却没有想到，国家已经发展到了这个程度。”
此时国内的光刻机技术和世界最🆈🍦先进水平相比，差距绝对不会太大，🆗🏰可能也就在🕑🈺🃙五年内。
不像是到了21世纪之后，🄩这个差距被拉🎱🔴🄲大到了四代。
到了EUV光刻机，光刻机才是第五代！
也就是说，此时国内的光刻机水平🛄🙲处在🍚第二代。
当然了，全球范围的光刻机水平也🛄🙲都🈷🂾还在第二代。
只不过发展第二代的🃁🔹🅥时候，国内的光刻🍚机发展就出现了问题。